硅晶片制造用除盐水设备采用阳阴离子交换树脂取得的去离子水，一般通过之后，出水电导率可降到10us/cm以下，再经过混床就可以达到1us/cm以下了。沈阳水处理设备公司以高科技、高质量为前提，引进世界上最先进的除盐水设备处理技术，让我们为您排忧解难，您的满意是我们的宗旨。 硅晶片制造用除盐水设备的进水指标PH：6.0～9.0，当总硬度低于0.1ppm时，EDI最佳工作的pH范围为8.0～9.0温度：5～35℃进水压力：4bar(60psi)硬度：(以CaCO3计)：1.0ppm有机物(TOC)：0.5ppm氧化剂：Cl20.05ppm，O30.02ppm变价金属：Fe0.01ppm，Mn0.02ppm